中文名：三氟化氮

英文名：Nitrogen trifluoride

化学式：NF3

分子量：71.002

CAS号：7783-54-2

EINECS号：232-007-1

熔    点：-207 ℃

沸    点：-129 ℃

水溶性：不溶

外    观：无色气体

溶解性：不溶于水

三氟化氮NF3是一种无色气体，在半导体工业中有重要应用，尤其是在等离子体蚀刻中，用作蚀刻气体的成分之一。除此之外，NF3还在科研、军事等领域有所应用。

三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

高纯三氟化氮几乎没有气味，它是一种热力学稳定的氧化剂，大约在350℃左右可分解成为二氟化氮和氟气，故其反应性质类似于氟。三氟化氮用作氧化剂时，在发生反应的同时，可作为二氟化氮游离基的供给源。

包装：20KG/47L钢瓶、200KG/440L钢瓶。